電子光學(xué)儀器
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儀器名稱:掃描電鏡(帶能譜) 生產(chǎn)廠家:日本電子JEOL 規(guī)格型號:5600LV 技術(shù)指標(biāo):SEM:高真空分辨率3.5nm,低真空分辨率4.5nm;SEM:放大倍數(shù)范圍50-200,000; 測試領(lǐng)域:高真空、低真空材料形貌、結(jié)構(gòu)、成分、缺陷分析 聯(lián)系人:董祥 13577068859 校區(qū):蓮華 單位:國家工種程中心 |
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儀器名稱:掃描電鏡 生產(chǎn)廠家:荷蘭飛利浦 規(guī)格型號:XL30ESEM-TMP 技術(shù)指標(biāo):放大倍數(shù):20-100000 測試領(lǐng)域:固體材料的形貌和成分分析 聯(lián)系人:陳亮維 13170634199 校區(qū):蓮華 單位:材料學(xué)院 |
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儀器名稱:高分辨場發(fā)射透電子顯微鏡(德貸設(shè)備) 生產(chǎn)廠家:荷蘭FEI公司 規(guī)格型號:Tecnai G2 TF30 技術(shù)指標(biāo):點分辨率:0.205 nm, 線分辨率:0.102 nm, 加速電壓:300 kV, 放大倍數(shù):2000 X ~ 1,000,000 X 測試領(lǐng)域:用于化學(xué)、物理學(xué)、材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、高分子、環(huán)境科學(xué)等領(lǐng)域的科學(xué)研究。本中心的TEM設(shè)備主要面向金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、納米材料、功能材料、催化劑的研究和技術(shù)開發(fā),用于觀察分析以上固體物質(zhì)和材料的顯微形貌、晶體結(jié)構(gòu)和相組織,及其相應(yīng)微區(qū)化學(xué)成分的定性定量分析 聯(lián)系人:王劍華 0871-65115227 0871-65110975 校區(qū):蓮華 單位:測試中心 |
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儀器名稱:鎢燈絲掃描電子顯微鏡 生產(chǎn)廠家:捷克Tescan公司 規(guī)格型號:VEGA-3SBH 技術(shù)指標(biāo):電子槍:鎢燈絲;二次電子分辨率:30KV下3.0nm; 3KV下8.0nm;背散射電子分辨率:30KV下3.5nm;加速電壓:200V~30KV;探針電流﹕1pA至2μA 測試領(lǐng)域:用于化學(xué)、物理學(xué)、材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)、生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、環(huán)境科學(xué)等領(lǐng)域的科學(xué)研究。本設(shè)備主要面向金屬、半導(dǎo)體、陶瓷、納米材料、功能材料、催化劑的研究和技術(shù)開發(fā),用于觀察分析以上固體物質(zhì)和材料的表面形貌和組織 聯(lián)系人:周烈興 0871-65115227 0871-65110975 校區(qū):蓮華 單位:測試中心 |
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儀器名稱:X光電子能譜儀(俄歇)(德貸設(shè)備) 生產(chǎn)廠家:日本ULVAC-PHI公司 規(guī)格型號:PHI5000VersaProbeⅡ 技術(shù)指標(biāo):X射線束斑≤10μm能量分辨率:半高寬FWHM≤ 0.5eV(Ag3d5/2峰) 測試領(lǐng)域:應(yīng)用于金屬材料、無機材料、納米材料、半導(dǎo)體材料、催化劑、生物功能材料、環(huán)境材料等材料中所涉及的表面(5-75)元素成分定性定量的分析,表面化學(xué)狀態(tài)和電子結(jié)構(gòu)的分析 聯(lián)系人:楊喜昆 137078718731 閔春剛 15559771773 0871-65110975 校區(qū):蓮華 單位:測試中心 |
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儀器名稱:掃描電鏡 生產(chǎn)廠家:捷克泰思肯 規(guī)格型號:VEGA 3 SBU 技術(shù)指標(biāo):鎢燈絲帶能譜 測試領(lǐng)域:形貌、元素分析 聯(lián)系人:陳卓 13700634168 司甜 15912406953 校區(qū):呈貢 單位:化工學(xué)院 |